苏州镀银价格*** 芜湖国瑞电镀加工厂家

电镀加工过程中90%以上的工作是在“清洗”，因为只有将工件清洗干净，工件基体露出新鲜的金属晶面，能使电镀溶液完全润湿工件表面，才能获得合格的电镀层，否则就会在工件表面出现、斑点、不均匀的金属花斑甚至镀层剥落。电镀前的清洗是使工件通过脱脂或酸洗清除表面粘附的各种油污和氧化膜。

过程中采用的电镀工艺有：脱脂；化学除油（脱脂）；电解除油；酸洗脱脂。

在润滑介质、冲压用油和冷却液中的添加剂，极压剂、分散剂在极高负载下形成非常耐磨和均匀吸附在工件表面的油膜，当然也就形成了更加难以清洗的油污。

(1)抛光液的组成及其他影响因素。

①抛光液组成：为了保证化学抛光的效果，必须使金属表面溶解，并在表面形成前述的液体膜或固体膜。化学抛光液的基本组成一般包括腐蚀剂、氧化剂、添加剂和水。其中，腐蚀剂是主要成分，主要使工件在溶液中溶解；氧化剂和添加剂可抑制腐蚀过程，使反应朝有利于抛光的方向进行；水对溶液浓度起调节作用，便于反应产物的扩散。

用作金属溶解的成分一般是酸，其中用得较多的是H2S04、HN03、HC1、H3PO。、HF等强酸，而对铝那样的金属，也可用NaOH，在这些酸中由于高浓度的磷酸和硫酸都具有较高的黏度，可形成液体膜扩散层，故这种成分具有两种功能。这也是在化学抛光液的组成中主要采用磷酸和硫酸的原因。为了提高黏度，使扩散层容易形成，也可加进明胶或甘油等能提高黏度的添加剂。为了促进固体膜的形成，则需加入以或铬酸为主的强氧化剂。

②抛光时间：化学抛光存在一个佳抛光时间范围。若时间过短，只能获得没有光泽的梨皮状表面；若时间过长，不仅溶液损失增大，而且加工表面会出现污点或斑点。而这个时间范围受材料、抛光液组成及抛光温度等因素的影响，通常难以预测，只能通过实验测定。化学抛光中往往同时产生氢气，这是在抛光具有氢脆敏感性材料时必须注意的问题。另外抛光液温度高达100~200CC时，还会发生退火作用。为了把氢脆和退火作用的影响降到低，就必须在适温度范围内选择尽可能短的抛光时间。

③抛光温度：化学抛光时，溶解速度随着抛光液温度的提高而显着增加。此外，强氧化性的酸在高温时的氧化作用会变得很显着。在化学抛光中，由于这些酸的溶解作用和氧化作用会同时发生，故多数情况下都是把抛光液加热到较高温度来进行抛光的。

电镀加工按使用环境选择

电镀层的使用条件，按照气候环境的严重程度分为三类：

1）腐蚀比较严重的工作环境——空气中含有少量工业废气或盐分，相对湿度周期地达到98%的场所，或经常接触手汗的工作条件。如：工业城市、离海较近地区、湿热地区等。

2）腐蚀中等的工作环境——空气中不含工业废气或盐分，相对湿度周期性地超过70%，并可达到95%的环境。如离海较远且工业不太发达的地区和一般室内环境。

3）腐蚀轻微的工作环境——空气中不含工业废气和盐分，而且比较干燥的室内外环境。如：干热带地区、干燥的封闭场所或有空调的实验室内部。

真空蒸镀

真空蒸镀，简称蒸镀，是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料（或称膜料）并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。蒸镀是使用较早、用途较广泛的气相沉积技术，具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能等优点。

蒸镀的物理过程包括：沉积材料蒸发或升华为气态粒子→气态粒子快速从蒸发源向基片表面输送→气态粒子附着在基片表面形核、长大成固体薄膜→薄膜原子重构或产生化学键合。将基片放入真空室内，以电阻、电子束、激光等方法加热膜料，使膜料蒸发或升华，气化为具有一定能量（0.1～0.3eV）的粒子（原子、分子或原子团）。气态粒子以基本无碰撞的直线运动飞速传送至基片，到达基片表面的粒子一部分被反射，另一部分吸附在基片上并发生表面扩散，沉积原子之间产生二维碰撞，形成簇团，有的可能在表面短时停留后又蒸发。粒子簇团不断地与扩散粒子相碰撞，或吸附单粒子，或放出单粒子。此过程反复进行，当聚集的粒子数超过某一临界值时就变为稳定的核，再继续吸附扩散粒子而逐步长大，终通过相邻稳定核的接触、合并，形成连续薄膜。